Laboratoire Procédés, Plasmas, Microsystèmes

Laboratoire Procédés, Plasmas, Microsystèmes
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EA 3492
Pendant le contrat quinquennal qui se termine, le laboratoire de Génie des Procédés Plasmas et Traitements de Surface (LGPPTS créé en 1981) était engagé sur une organisation en 4 équipes projets :

1 – Traitement de surfaces et dépôts de couches minces par plasma
2 – Dépollution par plasma et vieillissement des matériaux
3 – Procédés plasmas et matériaux pour l’énergie
4 – Procédés plasmas, matériaux, microsystèmes

Suite à la création de l’Institut de Recherche de Chimie Paris (IRCP) en 2014, et de notre implication dans le Labex Institut Pierre Gilles de Gennes pour la microfluidique (IPGG), nous ne formerons qu’une seule équipe qui aura pour intitulé : « Procédés, Plasmas, Microsystèmes » (2PM). Celle-ci regroupera 3 équipes du LGPPTS (équipes 1, 3 et 4 citées ci-dessus). Le bilan de l’équipe montrait une prédominance des problèmes liés au traitement de surface des matériaux, et des procédés propres (dépollution, purification, extraction…). Au futur, ces activités seront maintenues, mais elles seront intégrées dans le développement de microsystèmes innovants liés au génie des procédés tout en permettant un élargissement vers de nouvelles activités liées par exemple à la synthèse chimique en microréacteur assistée par des couplages plasma/catalyse.


Les compétences du laboratoire sont basées sur le génie des procédés et le développement de procédés plasmas. La nouvelle équipe formée « Procédés, Plasmas, Microsystèmes » associera ses compétences au développement de microsystèmes innovants, qui auront pour fonction de renforcer les aspects fondamentaux de notre recherche pour optimiser les procédés étudiés, mais également de proposer un développement de microsystèmes innovants qui seront impliqués dans les procédés de dépollution/extraction ou la synthèse chimique.

Concernant l’activité « procédés plasmas », deux types d’application seront visés ; (i) les procédés de dépôt de couches minces et de traitement de surface et (ii) les procédés visant à extraire ou transformer des molécules présentes dans une matrice (solide, liquide ou gazeuse). Il s’agit donc d’une recherche à finalité industrielle qui s’appuiera sur une large plateforme d’élaboration de matériaux par procédés plasma, avec mise au point du procédé jusqu’au transfert de technologie en s’appuyant sur des partenariats industriels, des laboratoires académiques ou des centres de recherche reconnus pour leurs compétences.

L’activité « microsystèmes », qui sera hébergée à l’IPGG, très complémentaire à celle hébergée à Chimie Paristech, renforcera l’aspect scientifique fondamental de notre recherche. Deux objectifs sont affichés : (i) utiliser les microsystèmes comme outils de caractérisation innovants des propriétés de surface des matériaux (activité catalytique, stabilité chimique…) et (ii) développer des microsystèmes pour rendre les procédés plus performants (intensification des procédés) par la maitrise des écoulements, des temps de séjour et des transferts de matière et d’énergie. Concernant cette dernière thématique, elle ouvrira la voie à une chimie contrôlée en microréacteurs/plasma avec des développements pour la synthèse de polymères biodégradables, la valorisation (Transformation du CO2 en CH4 avec H2 décarbonné…), et les procédés de dépollution (Traitement COV, traitement de l’eau).
Institution affiliée : ENSCP
Responsable : Michael Tatoulian
Coordonnées :
ENSCP Chimie ParisTech
Laboratoire de génie des procédés plasmas et traitement de surface
11 rue Pierre et Marie Curie
75231 Paris Cedex 05
Fax : +33 (0)1 44 27 68 13
Téléphone : +33 (0)1 44 27 68 18

 

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