Université PSL

Laboratoire Procédés, Plasmas, Microsystèmes

EA 3492
Les compétences de l’équipe « Procédés, Plasmas, Microsystèmes » sont basées sur le génie des procédés et le développement de procédés plasmas innovants. Suite à la création de l’Institut de recherche de Chimie Paris (IRCP) en 2014, et de notre implication dans le Labex Institut Pierre Gilles de Gennes pour la microfluidique (IPGG), notre équipe s’est intitulée « Procédés, Plasmas, Microsystèmes » (2PM) et a regroupé 3 équipes du Laboratoire de Génie des Procédés Plasmas et Traitement de Surface (EA 3492). Avant 2014, le bilan de l’équipe montrait une prédominance des problèmes liés au traitement de surface des matériaux, et des procédés propres (dépollution, purification, extraction…). Avec notre intégration au sein de l’IPGG, nous avons créé une nouvelle activité liée au développement de procédés plasmas en systèmes miniaturisés qui à notre connaissance, est une première dans la communauté scientifique « Plasma ».
Institution affiliée : ENSCP
Responsable : Michael Tatoulian

ENSCP Chimie ParisTech
Laboratoire de génie des procédés plasmas et traitement de surface
IPGG - 6 rue Jean Calvin 75005 Paris

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